如果不從氫氣的放電中排走氫氣的話，就會(huì)使濺射速率降低，并使氫氣摻入到薄膜中去。在濺射時(shí)采用具有選擇性抽氣的睜?wèi)B(tài)模式
中迸行放電或讓大量氫氣流過(guò)真空室，可以保持濺射放電時(shí)氫氣或其它惰性氣體的清潔度。當(dāng)真空室的輔助泵有選擇地抽除了其它
氣體后，將真空室抽空并再充入一定工作壓強(qiáng)的氫氣，以維持靜態(tài)放電。但問(wèn)題是沒(méi)有理想的輔助泵。最接近于理想的升華泵，會(huì)
產(chǎn)生一些甲烷且無(wú)法油除的惰性氣體雜質(zhì)。由于這些原因，濺射時(shí)不常采用靜態(tài)放電。這里，就象使用反應(yīng)性氣體的等離子體工藝
那樣，排除雜質(zhì)的一種可靠技術(shù)是粘滯流的沖洗。粘滯流的沖洗只能在當(dāng)氣流是通過(guò)活性濺射區(qū)和真空室，而且從氣源中來(lái)的雜質(zhì)
的到達(dá)速率要比真空室壁上解吸率低得多的情況下使用。拉蒙特(Lamont)曾指出，僅僅川大流覽還不能保證沖洗充分，還必須使清
洗區(qū)域中的氣流速度很快。采用大流量可以減少真空室內(nèi)所產(chǎn)生的污染。在大流量極限時(shí)，所能達(dá)到的最低污染程度就取決于氣體
源中的污染程度。在要求很嚴(yán)的應(yīng)用中，是讓氣體通過(guò)一臺(tái)欽升華泵來(lái)進(jìn)行凈化。因此，用所能獲得的最純的氣體以大于每秒幾百
Pa·L的速率來(lái)沖洗前面所描述過(guò)的那祥大小的真空室是沒(méi)有多大意義的。對(duì)保持適于純的薄膜淀積的條件來(lái)說(shuō)，氣源的清潔程度和
氣體的流率兩者都是同等重要的。
僅僅用氣體沖洗是無(wú)法充分清除真空室內(nèi)的全部殘余氣體的。無(wú)污染的濺射要求先用高真空抽氣抽到合適的本底壓強(qiáng)。然后用遮板
遮住準(zhǔn)備鍍膜的樣品，同時(shí)作預(yù)濺射，以放電進(jìn)行清沽處理。舍恩和帕特森注意到典型的6in。擴(kuò)散泵抽氣系統(tǒng)的沖洗時(shí)間非常短
(1/7s),以致這種系統(tǒng)可用簡(jiǎn)單的抽氣抽到工藝壓強(qiáng)就進(jìn)行輝光放電而不必先抽到高真空。遺憾的是輝光放電并不能把所有的表面都
充分清洗干凈，也不能使表面迅速出氣。未暴露在輝光中的表面所不斷放出的水蒸氣會(huì)使淀積薄膜遭到氧或氫的污染。最要緊的是
，在不使用殘余氣體分析器的情況下，日常檢查小漏的唯一方法是每次在打開漏孔通入氬氣流之前，必須將系統(tǒng)抽到同樣的本底壓
強(qiáng)。預(yù)戮射清潔處理可以 有幾種方式。如果所濺射的材料是一種吸氣劑，那就可以讓它淀積到真空室壁上，在那里它會(huì)成為一個(gè)有
效的吸氣劑泵。濺射的材料也覆蓋被吸附的氣體，而放電則清洗暴琳在輝光中的陰極和其它表面。
本底壓強(qiáng)的大小和預(yù)濺射時(shí)間的長(zhǎng)短同工藝過(guò)程、設(shè)備和材料有關(guān)。例如德埃爾指出，對(duì)鋁膜來(lái)說(shuō)，十分鐘的預(yù)濺射清潔處理就已
足夠了，而布萊克曼認(rèn)為鋁的清潔處理時(shí)間至少需要一個(gè)小時(shí)，根本沒(méi)有統(tǒng)一的意見。某些材料的性質(zhì)同膜的純度有嚴(yán)格的關(guān)系，
以致本底壓強(qiáng)的大小和預(yù)錢射時(shí)間的長(zhǎng)短對(duì)重復(fù)制備的均勻而高質(zhì)里的薄膜是至關(guān)重要的。
這段討論的結(jié)論是建立起一個(gè)初始的清潔狀態(tài)需要用高真空泵，而預(yù)戮射清潔處理和去除真空室的污染，則貓要采用無(wú)氛和泵液返
流的節(jié)流的高壓縮比的泵。用同一合泵是能礴足這兩個(gè)要求的。也可采用兩種完全不同的抽氣系統(tǒng)，用一白高真空、小排氣量系統(tǒng)
來(lái)進(jìn)行初始的清潔處理，再用一臺(tái)中真空系統(tǒng)來(lái)抽除大流量，但要設(shè)計(jì)出能達(dá)到所擂要的對(duì)級(jí)壓縮比的中真空系統(tǒng)則是相當(dāng)困難的。
